Nitrogen Trifluoride (NF3) Taas nga Purity Gas

Limpyo nga ahente sa industriya sa elektroniko: Ang NF3 kaylap nga gigamit isip usa ka ahente sa paglimpyo alang sa pagtangtang sa mga nahabilin nga mga kontaminado, sama sa mga oxide, gikan sa mga ibabaw sa mga semiconductor, plasma display panels (PDPs), ug uban pang mga elektronik nga sangkap. Kini epektibo nga makalimpyo niini nga mga ibabaw nga dili makadaot kanila.

Etching gas sa semiconductor fabrication: Ang NF3 gigamit isip etching gas sa proseso sa paggama sa mga semiconductor. Kini labi ka epektibo sa pag-etching sa silicon dioxide (SiO2) ug silicon nitride (Si3N4), nga kasagarang mga materyales nga gigamit sa paggama sa mga integrated circuit.

Pagprodyus og high-purity fluorine compounds: Ang NF3 usa ka bililhong tinubdan sa fluorine para sa paggama sa lain-laing mga compound nga adunay fluorine. Gigamit kini ingon usa ka pasiuna sa paghimo sa mga fluoropolymers, fluorocarbon, ug mga espesyal nga kemikal.

Plasma generation sa flat panel display manufacturing: Ang NF3 gigamit uban sa ubang mga gas aron makamugna og plasma sa paggama sa flat panel display, sama sa liquid crystal display (LCDs) ug PDPs. Ang plasma kinahanglanon sa pagdeposito ug mga proseso sa pag-ukit sa panahon sa paghimo sa panel.

Timan-i nga ang piho nga mga aplikasyon ug mga regulasyon alang sa paggamit niini nga materyal/produkto mahimong magkalahi sa nasud, industriya ug katuyoan. Sunda kanunay ang mga giya sa kaluwasan ug konsultaha ang usa ka eksperto sa dili pa gamiton kini nga materyal/produkto sa bisan unsang aplikasyon.